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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3099位 6件 (2015年:第4198位 4件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2650位 6件 (2015年:第1350位 14件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6053624 | 微細気泡式処理装置 | 2016年12月27日 | |
特許 6030848 | 無電解銅めっき浴及び無電解銅めっき方法 | 2016年11月24日 | |
特許 6025899 | 無電解ニッケルめっき浴及びこれを用いた無電解めっき方法 | 2016年11月16日 | |
特許 5997741 | 配線基板の製造方法およびその方法により製造された配線基板 | 2016年 9月28日 | |
特許 5986848 | 表面処理装置 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5928142 | 錫又は錫合金めっき皮膜用後処理剤、及び錫又は錫合金めっき皮膜の処理方法 | 2016年 6月 1日 | |
特許 5840454 | 還元型無電解銀めっき液及び還元型無電解銀めっき方法 | 2016年 1月 6日 |
7 件中 1-7 件を表示
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6053624 6030848 6025899 5997741 5986848 5928142 5840454
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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