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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第1656位 14件
(2013年:第2152位 11件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1774位 13件
(2013年:第1271位 20件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-238896 | 光情報記録媒体用反射膜、光情報記録媒体用反射膜形成用スパッタリングターゲット、および光情報記録媒体 | 2014年12月18日 | |
特開 2014-231639 | Li含有酸化物ターゲット接合体 | 2014年12月11日 | |
特開 2014-198901 | LiCoO2含有焼結体およびスパッタリングターゲット、並びにLiCoO2含有焼結体の製造方法 | 2014年10月23日 | |
特開 2014-120486 | 表示装置または入力装置に用いられる電極、および電極形成用スパッタリングターゲット | 2014年 6月30日 | 共同出願 |
特開 2014-120487 | 表示装置または入力装置に用いられる電極、および電極形成用スパッタリングターゲット | 2014年 6月30日 | 共同出願 |
特開 2014-103312 | 表示装置または入力装置に用いられる電極、および電極形成用スパッタリングターゲット | 2014年 6月 5日 | 共同出願 |
特開 2014-58416 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット | 2014年 4月 3日 | |
特開 2014-58415 | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット、並びにその製造方法 | 2014年 4月 3日 | |
特開 2014-43643 | Cu合金薄膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | 2014年 3月13日 | |
特開 2014-42983 | 被覆ソーワイヤ | 2014年 3月13日 | |
特開 2014-27114 | 半導体基板と絶縁膜との界面評価方法、及び半導体基板と絶縁膜との界面評価装置 | 2014年 2月 6日 | 共同出願 |
特開 2014-19930 | ターゲット組立体 | 2014年 2月 3日 | |
特開 2014-5517 | ターゲット接合体 | 2014年 1月16日 | |
特開 2014-740 | スクリーン印刷用メッシュ部材およびスクリーン印刷版 | 2014年 1月 9日 |
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2014-238896 2014-231639 2014-198901 2014-120486 2014-120487 2014-103312 2014-58416 2014-58415 2014-43643 2014-42983 2014-27114 2014-19930 2014-5517 2014-740
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