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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2497位 8件
(2019年:第3170位 6件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第3265位 4件
(2019年:第5347位 2件)
(ランキング更新日:2025年3月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2020-536740 | レーザ加工システムのための装置、これを用いたレーザ加工システム、および光学素子の焦点位置を調節する方法 | 2020年12月17日 | |
特表 2020-532743 | コヒーレンストモグラフの光学デバイスの方向を決定するデバイス、コヒーレンストモグラフ、及びレーザ処理システム | 2020年11月12日 | |
特表 2020-531292 | レーザ加工システム内でレーザビームの焦点位置を決定するための装置、その装置を備えるレーザ加工システム及びレーザ加工システム内でレーザビームの焦点位置を決定するための方法 | 2020年11月 5日 | |
特表 2020-530525 | 付加製造用の装置及び方法 | 2020年10月22日 | |
特表 2020-520810 | レーザ材料加工中にレーザ加工ヘッドにおけるビームガイド光学系を監視するための方法およびデバイス | 2020年 7月16日 | |
特表 2020-516459 | 動作レーザビームの焦点を制御するための方法及び装置ならびにそのような装置を有するレーザ加工ヘッド | 2020年 6月11日 | |
特表 2020-516461 | 直交座標系位置決めデバイスおよびこれを含むレーザ加工ヘッド | 2020年 6月11日 | |
特表 2020-508223 | 加工方向に沿ってレーザビームを用いて材料を加工するための装置およびレーザビームを用いて材料を加工するための方法 | 2020年 3月19日 |
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2020-536740 2020-532743 2020-531292 2020-530525 2020-520810 2020-516459 2020-516461 2020-508223
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