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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第4414位 4件
(2018年:第33468位 0件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第23568位 0件
(2018年:第23370位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2019-534383 | エピタキシャル堆積用のリアクタの加熱方法及びエピタキシャル堆積用のリアクタ | 2019年11月28日 | |
特表 2019-533310 | 反応室外部のリフレクタを有するエピタキシャル堆積リアクタと、サセプタ及び基板を冷却する方法 | 2019年11月14日 | |
特表 2019-511121 | 負圧で圧締された基板を有するサセプタおよびエピタキシャル成長のための反応器 | 2019年 4月18日 | |
特表 2019-507093 | 誘導加熱可能なサセプタ及びエピタキシャル堆積リアクタ | 2019年 3月14日 |
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2019-534383 2019-533310 2019-511121 2019-507093
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