ホーム > 特許ランキング > AGCエンジニアリング株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(AGCエンジニアリング株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第5141位 3件
(2010年:第35941位 0件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第5986位 2件
(2010年:第5419位 2件)
(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-202074 | 陰イオン交換膜の製造方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-189223 | 陽イオン交換膜、水素イオン選択透過膜および酸回収方法 | 2011年 9月29日 | 共同出願 |
特開 2011-36568 | 調湿モジュール、該調湿モジュールの製造方法及び該調湿モジュールの製造装置 | 2011年 2月24日 |
3 件中 1-3 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-202074 2011-189223 2011-36568
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。AGCエンジニアリング株式会社の知財の動向チェックに便利です。
3月21日(金) -
3月21日(金) -
3月21日(金) - 石川 金沢市
3月21日(金) -
3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -