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丸善石油化学株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第5218位 3件 下降2013年:第2668位 8件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第1602位 15件 上昇2013年:第2264位 9件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5646149 選択 フォトレジスト用共重合体ならびにその製造方法および保存方法 2014年12月24日
特許 5642930 選択 液状硬化性組成物及びその硬化物 2014年12月17日
特許 5631550 選択 フォトレジスト用共重合体の製造方法 2014年11月26日
特許 5591465 選択 濃度が均一な半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法 2014年 9月17日
特許 5588095 選択 半導体リソグラフィー用共重合体とその製造方法 2014年 9月10日
特許 5554170 選択 熱ナノインプリント方法 2014年 7月23日
特許 5547568 選択 重合性組成物、これを用いる金属ナノ粒子の製造方法及びこの金属ナノ粒子を保持した硬化膜 2014年 7月16日
特許 5512921 選択 ABA型トリブロック共重合体及びその製造方法 2014年 6月 4日
特許 5508011 選択 ABA型トリブロック共重合体及びその製造方法 2014年 5月28日
特許 5498753 選択 脂環構造と芳香環構造とを併せもつビニルエーテル 2014年 5月21日
特許 5470528 選択 エッチングマスク、エッチングマスク付き基材、微細加工品および微細加工品の製造方法 2014年 4月16日 共同出願
特許 5452031 選択 半導体リソグラフィー用共重合体とその製造方法、および組成物 2014年 3月26日
特許 5456465 選択 微細加工品およびその製造方法 2014年 3月26日
特許 5394619 選択 熱インプリント方法 2014年 1月22日 共同出願
特許 5384421 選択 半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法 2014年 1月 8日

15 件中 1-15 件を表示

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5646149 5642930 5631550 5591465 5588095 5554170 5547568 5512921 5508011 5498753 5470528 5452031 5456465 5394619 5384421

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