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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5646149 | フォトレジスト用共重合体ならびにその製造方法および保存方法 | 2014年12月24日 | |
特許 5642930 | 液状硬化性組成物及びその硬化物 | 2014年12月17日 | |
特許 5631550 | フォトレジスト用共重合体の製造方法 | 2014年11月26日 | |
特許 5591465 | 濃度が均一な半導体リソグラフィー用共重合体溶液の製造方法 | 2014年 9月17日 | |
特許 5588095 | 半導体リソグラフィー用共重合体とその製造方法 | 2014年 9月10日 | |
特許 5554170 | 熱ナノインプリント方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5547568 | 重合性組成物、これを用いる金属ナノ粒子の製造方法及びこの金属ナノ粒子を保持した硬化膜 | 2014年 7月16日 | |
特許 5512921 | ABA型トリブロック共重合体及びその製造方法 | 2014年 6月 4日 | |
特許 5508011 | ABA型トリブロック共重合体及びその製造方法 | 2014年 5月28日 | |
特許 5498753 | 脂環構造と芳香環構造とを併せもつビニルエーテル | 2014年 5月21日 | |
特許 5470528 | エッチングマスク、エッチングマスク付き基材、微細加工品および微細加工品の製造方法 | 2014年 4月16日 | 共同出願 |
特許 5452031 | 半導体リソグラフィー用共重合体とその製造方法、および組成物 | 2014年 3月26日 | |
特許 5456465 | 微細加工品およびその製造方法 | 2014年 3月26日 | |
特許 5394619 | 熱インプリント方法 | 2014年 1月22日 | 共同出願 |
特許 5384421 | 半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法 | 2014年 1月 8日 |
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5646149 5642930 5631550 5591465 5588095 5554170 5547568 5512921 5508011 5498753 5470528 5452031 5456465 5394619 5384421
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