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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第3481位 5件
(
2010年:第7810位 2件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第5986位 2件
(
2010年:第8338位 1件)
(ランキング更新日:2026年1月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4659097 | プラズマ反応装置およびこれを用いた排気ガス内の粒子状物質の低減システム | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4651390 | 多重浮彫要素スタンプを利用したUVナノインプリントリソグラフィ法 | 2011年 3月16日 |
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4659097 4651390
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