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レニショウ パブリック リミテッド カンパニー
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1974位 11件
（
2010年：第1159位 26件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1390位 17件
（2010年：第1108位 20件）
（ランキング更新日：2024年11月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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レニショウ パブリック リミテッド カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4812998 | 座標位置決め機械用の位置判定装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4813018 | 基板処理装置および方法ならびにこの方法により加工されたエンコーダスケール | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4773677 | 工作機械プローブ | 2011年 9月14日 | |
| 特許 4764427 | 検出装置および方法 | 2011年 9月 7日 | |
| 特許 4754427 | プローブ | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4758065 | ラックおよびモジュール交換システム | 2011年 8月24日 | |
| 特許 4750422 | ツール分析装置及び方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4750998 | 光電子スケール読取り装置 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4741561 | 光ビームの中心決定方法 | 2011年 8月 3日 | |
| 特許 4726303 | ダイアフラムおよびモジュールを備えた測定プローブ | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4718088 | 分光プローブ | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4714333 | 測定スケールおよび測定システム | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4695762 | 光センサ付き表面検査装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4695808 | 機械上の対象物を測定する光学測定装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4680176 | 工作機械の制御方法、および、それに対する装置 | 2011年 5月11日 |
17 件中 1-15 件を表示
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4812998 4813018 4773677 4764427 4754427 4758065 4750422 4750998 4741561 4726303 4718088 4714333 4695762 4695808 4680176
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