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エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第767位 41件
（
2010年：第634位 60件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第660位 45件
（
2010年：第1012位 22件）
（ランキング更新日：2024年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4847491 | 溶融炉への熱供給方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4846987 | 電子付着及び遠隔イオン発生を伴うフラックスレス技術によって表面酸化物を除去するための装置及び方法 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4842981 | 現像パターンのつぶれ回避方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842982 | 基材表面のパターンつぶれ欠陥を低減するためのリンス処理溶液 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4842878 | 金属の水素化物ガスを電気化学セルで発生させるための方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4843068 | 半導体デバイス製造の際のパターンつぶれ欠陥数の低減方法 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4838190 | 制御された気孔を形成するための材料及び方法 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4834124 | 体積流量制御器 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4824823 | アミノシラン、シリコン含有膜の形成用前駆体、シリコン含有膜の形成用組成物 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828784 | 亜酸化窒素除去方法及び装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828833 | 液浸リソグラフィ流体 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4819429 | 残留物を除去するための組成物及び方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4814356 | はく離及び洗浄用の組成物並びにそれらの使用 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4809313 | 入口プレナムを含む容器および容器から分配する方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4795690 | 体積流量制御器 | 2011年10月19日 |
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4847491 4846987 4842981 4842982 4842878 4843068 4838190 4834124 4824823 4828784 4828833 4819429 4814356 4809313 4795690
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 （周辺領域の商標・不正競争防止法を含む）に関するQ&A ～日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Ｑ＆Ａ形式で平易に解説～
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