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■ 2012年 特許取得件数ランキング 第3300位 5件 (2011年:第5986位 2件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4995261 | パターン化ビームの総合変調を持つ粒子ビーム露光装置 | 2012年 8月 8日 | |
特許 4987771 | マスクレス粒子ビーム露光方法 | 2012年 7月25日 | |
特許 4966461 | 位置合わせシステムにおいて粒子投影平版印刷システムに使用する装置(パターンのロックシステム) | 2012年 7月 4日 | |
特許 4858745 | 粒子ビーム処理のための新型のパターン画定法 | 2012年 1月18日 | |
特許 4858743 | 粒子光学静電レンズ | 2012年 1月18日 |
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4995261 4987771 4966461 4858745 4858743
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
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