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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第7092位 2件 (2011年:第2115位 10件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第2665位 7件 (2011年:第2601位 7件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5108941 | トランジスタアレイにおける閾値電圧のレイアウト感度の抑制方法 | 2012年12月26日 | |
特許 5039698 | 複製されたロジックを使用するデバッグ及びテスト方法並びにシステム | 2012年10月 3日 | |
特許 4989629 | 複製ロジック及びトリガロジックを用いたデバッグのための方法及びシステム | 2012年 8月 1日 | |
特許 4925408 | プロセス感度モデルを用いてレイアウト内の製造問題領域を識別する方法 | 2012年 4月25日 | |
特許 4909495 | 位相シフトフォトリソグラフィックマスクのための光学的近接補正 | 2012年 4月 4日 | |
特許 4906118 | マスク設計及びマスク製造におけるマスク検査のための方法 | 2012年 3月28日 | |
特許 4881398 | 目標パターンを定義するためのホトリソグラフイック・マスク | 2012年 2月22日 |
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5108941 5039698 4989629 4925408 4909495 4906118 4881398
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