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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1902位 12件 (2011年:第1323位 19件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第705位 45件 (2011年:第609位 50件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-222363 | EUV照明均一性二重補正システムおよび方法 | 2012年11月12日 | |
特開 2012-209555 | リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2012年10月25日 | 共同出願 |
特表 2012-523552 | フーリエフィルタリングおよびイメージ比較を用いるマスク検査 | 2012年10月 4日 | |
特表 2012-523107 | レチクル用のレチクル交換デバイスおよびレチクルステージにおける共有コンプライアンス | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-143143 | 真空環境用のリニアモータシステムおよびその設計方法 | 2012年 7月26日 | |
特開 2012-119687 | パターニングデバイスサポート | 2012年 6月21日 | |
特開 2012-33930 | リソグラフィ装置におけるレチクル冷却 | 2012年 2月16日 | |
特開 2012-33942 | 光ビーム強度のパルス間エネルギ平準化 | 2012年 2月16日 | |
特開 2012-14170 | 光ウィンドウとともに広角対物レンズを用いる検査装置 | 2012年 1月19日 | |
特開 2012-15508 | レチクルクランプシステム | 2012年 1月19日 | |
特開 2012-8127 | メトロロジ用の反射屈折照明システム | 2012年 1月12日 | |
特表 2012-500481 | 高熱伝導率を有するEUVレチクル基板 | 2012年 1月 5日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2012-222363 2012-209555 2012-523552 2012-523107 2012-143143 2012-119687 2012-33930 2012-33942 2012-14170 2012-15508 2012-8127 2012-500481
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
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10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
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10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
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10月25日(金) - 東京 千代田区
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10月25日(金) - 大阪 大阪市
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