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ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社

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ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4839470	トップコートを用いて深紫外線フォトレジストに像を形成する方法およびそのための材料	2011年12月21日
特許 4834246	感光性ポリアミド及び組成物	2011年12月14日	共同出願
特許 4813193	スピンレス、スリットコーティングに適した感光性樹脂組成物	2011年11月 9日
特許 4799800	化学増幅型ネガ型フォトレジスト組成物	2011年10月26日
特許 4786636	反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法	2011年10月 5日
特許 4769680	金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物およびパターン形成法	2011年 9月 7日	共同出願
特許 4759483	フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の塗布方法およびレジストパターンの形成方法	2011年 8月31日	共同出願
特許 4756146	厚膜形成用のフォトレジスト組成物	2011年 8月24日
特許 4753237	感光性樹脂組成物	2011年 8月24日
特許 4727567	反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法	2011年 7月20日
特許 4723557	表面反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法	2011年 7月13日
特許 4722269	低誘電率多孔質シリカ質膜、半導体装置およびコーティング組成物、ならびに低誘電率多孔質シリカ質膜の製造方法	2011年 7月13日
特許 4714581	ポリシラザン含有コーティング液	2011年 6月29日
特許 4714394	フォトレジスト組成物用の反射防止膜	2011年 6月29日
特許 4637303	ポリシラザンの製造方法	2011年 2月23日

18 件中 1-15 件を表示

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4839470 4834246 4813193 4799800 4786636 4769680 4759483 4756146 4753237 4727567 4723557 4722269 4714581 4714394 4637303

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