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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第5661位 3件 (2012年:第2313位 9件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2459位 8件 (2012年:第2117位 10件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5374626 | 現像剤でトリムされたハードマスクを有するフォトリソグラフィック構造体の製造方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5368674 | 現像液に可溶な材料および現像液に可溶な材料をビアファーストデュアルダマシン適用において用いる方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5357186 | 多重暗視野露光によるハードマスクのパターン形成のためのオントラックプロセス | 2013年12月 4日 | |
特許 5232155 | 現像剤でトリムされたハードマスクを有するフォトリソグラフィック構造体の製造方法 | 2013年 7月10日 | |
特許 5232166 | 接触平坦化装置 | 2013年 7月10日 | |
特許 5165247 | マイクロエレクトロニクスデバイスのパターンを腐食から保護する構造およびそれを形成する方法 | 2013年 3月21日 | |
特許 5111620 | デバイスウェーハーをキャリヤー基板に逆に装着する方法 | 2013年 1月 9日 | |
特許 5111573 | 逆に装着されたデバイスウェーハーをキャリヤー基板から分離する方法および装置 | 2013年 1月 9日 |
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5374626 5368674 5357186 5232155 5232166 5165247 5111620 5111573
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
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10月23日(水) -
10月23日(水) -
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10月24日(木) -
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10月24日(木) - 東京 港
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10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
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