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キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイション

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キャボットマイクロエレクトロニクスコーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2011-530166	シリコン含有基材を研磨するための方法及び組成物	2011年12月15日
特開 2011-243579	本発明の非平行形状フィールドを有するＸ線源	2011年12月 1日
特表 2011-527643	ニッケル−リンの研磨方法	2011年11月 4日
特開 2011-159998	化学的機械的研磨組成物	2011年 8月18日
特表 2011-523207	安定な高濃度ケイ素スラリー	2011年 8月 4日
特開 2011-126010	混合研磨材の研磨用組成物及びその使用方法	2011年 6月30日
特表 2011-517507	ダマシン構造におけるアルミニウム／銅及びチタンを研磨するための組成物	2011年 6月 9日
特表 2011-513991	水溶性酸化剤を用いた炭化ケイ素の研磨方法	2011年 4月28日
特表 2011-509836	ニッケル−リン被覆アルミニウムハードディスクの研磨のための組成物および方法	2011年 3月31日
特表 2011-508423	金属除去速度を制御するためのハロゲン化物アニオン	2011年 3月10日
特表 2011-505694	銅を不動態化するＣＭＰ組成物及び方法	2011年 2月24日
特開 2011-31392	光透過領域を有する研磨パッドを製造するための超音波溶接法	2011年 2月17日
特表 2011-503873	ルテニウム及びタンタルバリアＣＭＰ用の組成物及び方法	2011年 1月27日

13 件中 1-13 件を表示

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2011-530166 2011-243579 2011-527643 2011-159998 2011-523207 2011-126010 2011-517507 2011-513991 2011-509836 2011-508423 2011-505694 2011-31392 2011-503873

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