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アイクストロン、アーゲー
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（
2010年：第3298位 6件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第1707位 13件
（
2010年：第5419位 2件）
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アイクストロン、アーゲーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4809562 | 化学気相成膜反応室 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4789384 | 凝縮被膜生成法 | 2011年10月12日 | |
| 特許 4776168 | 半導体層の堆積プロセス | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4778655 | １つまたは多くの被膜を基板に沈積する方法および装置 | 2011年 9月21日 | |
| 特許 4759572 | ＲＦ−加熱されるプロセス室を備えたＣＶＤ反応装置 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4731076 | 半導体膜をＣＶＤ法によって堆積する堆積方法および堆積装置 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4719679 | 膜製造方法及び膜製造装置 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4700602 | 一方を前処理した２種のプロセスガスを用いた半導体蒸着プロセス及び装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4673881 | 結晶層堆積装置および結晶層堆積方法 | 2011年 4月20日 | |
| 特許 4664598 | 高さ調節可能な処理チャンバ内における基板上への薄膜層堆積プロセス及び装置 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許 4637450 | ＣＶＤコーティング装置 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4637844 | ＣＶＤコーティング装置 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4606675 | 化学薬品蒸気溶着室およびそれを備えたエピタクシー反応装置 | 2011年 1月 5日 |
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4809562 4789384 4776168 4778655 4759572 4731076 4719679 4700602 4673881 4664598 4637450 4637844 4606675
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日常実務の疑問点に答える著作権 （周辺領域の商標・不正競争防止法を含む）に関するQ&A ～日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Ｑ＆Ａ形式で平易に解説～
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