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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレ…
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1343位 19件
（
2011年：第2279位 9件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1540位 16件
（
2011年：第1190位 21件）
（ランキング更新日：2024年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレ…の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5089073 | 半径方向の偏った研磨パッド | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091400 | 無砥粒ケミカルメカニカルポリッシング組成物 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091410 | 半径方向に交互に位置する溝セグメント配置形態を有するＣＭＰパッド | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091441 | 透明な研磨パッド | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5016220 | 窒化ケイ素上の二酸化ケイ素をケミカルメカニカル研磨するための多工程法 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5016576 | 化学機械平坦化用の研磨パッド | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5016655 | 研磨パッド | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 4996924 | スラリーの還流を減少したケミカルメカニカルポリッシング方法 | 2012年 8月 8日 | |
| 特許 4959901 | 化学機械平坦化用溝付き研磨パッド | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4954716 | ポリウレタン研磨パッド | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4949677 | 重複する段差溝構造を有するＣＭＰパッド | 2012年 6月13日 | |
| 特許 4937536 | ケミカルメカニカルポリッシング組成物及びそれに関連する方法 | 2012年 5月23日 | |
| 特許 4926351 | ミクロ−テクスチャーを備えた研磨パッド | 2012年 5月 9日 | |
| 特許 4916638 | 研磨パッド用ベースパッド | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4916657 | プロセスに依存した溝構造を有するケミカルメカニカル研磨パッド | 2012年 4月18日 |
16 件中 1-15 件を表示
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5089073 5091400 5091410 5091441 5016220 5016576 5016655 4996924 4959901 4954716 4949677 4937536 4926351 4916638 4916657
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