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ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレ…

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　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第1656位　14件（2013年：第2030位　12件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第1392位　18件（2013年：第1588位　15件）

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ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレ…の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2014-233833	軟質かつコンディショニング可能な化学機械研磨パッドスタック	2014年12月15日	共同出願
特開 2014-233834	軟質かつコンディショニング可能な化学機械ウィンドウ研磨パッド	2014年12月15日	共同出願
特開 2014-233835	軟質かつコンディショニング可能な研磨層を有する多層化学機械研磨パッドスタック	2014年12月15日	共同出願
特開 2014-209623	シリコンウェーハ研磨組成物及び関連する方法	2014年11月 6日
特開 2014-207449	安定した、濃縮可能なリコンウェーハ研磨組成物及び関連する方法	2014年10月30日
特開 2014-172169	多層ケミカルメカニカル研磨パッド	2014年 9月22日	共同出願
特開 2014-172168	広スペクトル終点検出ウィンドウを有するケミカルメカニカル研磨パッド及びそれを用いる研磨方法	2014年 9月22日	共同出願
特開 2014-172170	広スペクトル終点検出ウィンドウを有する多層ケミカルメカニカル研磨パッド	2014年 9月22日	共同出願
特開 2014-97567	軟質かつコンディショニング可能なケミカルメカニカル研磨パッド	2014年 5月29日
特開 2014-95072	ケミカルメカニカルポリッシング組成物及び方法	2014年 5月22日
特開 2014-87925	シールされた窓を有するケミカルメカニカル研磨パッド	2014年 5月15日
特開 2014-78723	化学機械平坦化用の研磨パッド	2014年 5月 1日
特開 2014-72527	溝付き化学機械研磨層の製造方法	2014年 4月21日
特開 2014-28427	化学機械研磨層のプレテクスチャリングの方法	2014年 2月13日

14 件中 1-14 件を表示

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2014-233833 2014-233834 2014-233835 2014-209623 2014-207449 2014-172169 2014-172168 2014-172170 2014-97567 2014-95072 2014-87925 2014-78723 2014-72527 2014-28427

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