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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5290579 | プラズマ生成方法、及びプラズマ生成に用いる高周波生成器の製造方法 | 2013年 9月18日 | |
特許 5290745 | プラズマ処理システムにおけるクリーニングまたはコンディショニングプロセスのエンドポイント決定方法及び装置 | 2013年 9月18日 | |
特許 5290083 | 真空プラズマプロセッサ | 2013年 9月18日 | |
特許 5286367 | 基板から汚染物質を除去するための方法及びシステム | 2013年 9月11日 | |
特許 5289762 | 多重RF周波数に応答する電極を有するプラズマプロセッサ | 2013年 9月11日 | |
特許 5268215 | 銅結線のシード層の処理方法および処理装置 | 2013年 8月21日 | |
特許 5265770 | プラズマ処理チャンバ内のデチャックを検出するための容量結合静電(CCE)プローブ構成、それに関連する方法、及び、その方法を実行するコンピュータ可読コードを格納するプログラム格納媒体 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265700 | プラズマ処理装置用の複合シャワーヘッド電極組立体 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265539 | 半導体ウエハープラズマ処理装置 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265669 | 早期乾燥を阻止する方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265871 | 多重周波数プラズマ・エッチング反応装置 | 2013年 8月14日 | |
特許 5265924 | ウェハの移動を制御するマクロ | 2013年 8月14日 | |
特許 5265664 | 原子層蒸着のための装置および方法 | 2013年 8月14日 | |
特許 5254614 | 基板処理システムにおけるスマートコンポーネント管理技術 | 2013年 8月 7日 | |
特許 5255057 | 高度に収束された光を収集する配置の方法および装置 | 2013年 8月 7日 |
112 件中 31-45 件を表示
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5290579 5290745 5290083 5286367 5289762 5268215 5265770 5265700 5265539 5265669 5265871 5265924 5265664 5254614 5255057
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
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