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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件 (2012年:第409位 98件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5377314 | プロセスチャンバのためのガス注入器および光アクセスのための方法 | 2013年12月25日 | |
特許 5377513 | ショートエッチングレシピのためのガス輸送遅延の解消のための装置、方法、及びプログラム格納デバイス | 2013年12月25日 | |
特許 5371871 | 低汚染プラズマ反応室の構成部品の製造方法 | 2013年12月18日 | |
特許 5363992 | プラズマチャンバ材料としてのイットリウム酸化物の寿命の延長 | 2013年12月11日 | |
特許 5364054 | 調整可能なマルチゾーンガス噴射システム | 2013年12月11日 | |
特許 5361892 | 部品の誘電特性を測定するための装置及びシステム | 2013年12月 4日 | |
特許 5358441 | 自動動的ベースライン生成および調整 | 2013年12月 4日 | |
特許 5361947 | 適応熱導体を有するプラズマ処理チャンバ部品を備えるアセンブリ、及び、プラズマエッチング方法 | 2013年12月 4日 | |
特許 5358565 | 処理チャンバにおいて処理実行領域と隣接する処理除外領域を保護するための方法および装置 | 2013年12月 4日 | |
特許 5346018 | プラズマ処理装置用のシャワーヘッド電極アセンブリ | 2013年11月20日 | |
特許 5341875 | レシピおよび部品の制御モジュールならびにその方法 | 2013年11月13日 | |
特許 5341073 | 熱伝導性ガスケットおよびOリングを利用する電極アセンブリおよびプラズマ処理室 | 2013年11月13日 | |
特許 5336199 | 複数の容量および誘導プラズマ源を備えたプラズマ処理リアクタ | 2013年11月 6日 | |
特許 5334914 | プラズマ処理装置 | 2013年11月 6日 | |
特許 5336513 | 動的アラインメント・ビーム校正のためのシステムおよび方法 | 2013年11月 6日 |
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5377314 5377513 5371871 5363992 5364054 5361892 5358441 5361947 5358565 5346018 5341875 5341073 5336199 5334914 5336513
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
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