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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件 (2012年:第409位 98件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5183213 | 真空プラズマプロセッサ | 2013年 4月17日 | |
特許 5184644 | 湿式エッジ洗浄を強化するためのベベルプラズマ処理 | 2013年 4月17日 | |
特許 5183850 | 有機ケイ酸塩誘電体の層を有する半導体ウエハからフォトレジストを剥離する方法 | 2013年 4月17日 | |
特許 5179627 | プラズマ処理チャンバ用の可動接地リング | 2013年 4月10日 | |
特許 5178983 | 有機ケイ酸塩ガラスにデュアルダマシン構造をエッチングするための方法 | 2013年 4月10日 | |
特許 5175295 | 一次サーバーアーキテクチャネットワーク構成およびその方法 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5175302 | ウエハ端部の処理方法及び処理装置 | 2013年 4月 3日 | |
特許 5172355 | プラズマ処理ツールにおける情報管理プロセス | 2013年 3月27日 | |
特許 5164978 | プラズマ処理を監視する方法 | 2013年 3月21日 | |
特許 5164990 | 基板処理メニスカスによって残される入口マークおよび/または出口マークを低減させるためのキャリア | 2013年 3月21日 | |
特許 5165306 | 多孔質低k誘電体層内に特徴を形成するための装置 | 2013年 3月21日 | |
特許 5165560 | エッチング層に形状を形成するための方法 | 2013年 3月21日 | |
特許 5165821 | 誘導結合型プラズマ発生システム用の複数コイル・アンテナ | 2013年 3月21日 | |
特許 5166591 | プラズマエッチング反応器の構成部品、プラズマエッチング反応器及び半導体基板を処理する方法 | 2013年 3月21日 | |
特許 5165817 | 静電チャック及びその製造方法 | 2013年 3月21日 |
112 件中 76-90 件を表示
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5183213 5184644 5183850 5179627 5178983 5175295 5175302 5172355 5164978 5164990 5165306 5165560 5165821 5166591 5165817
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
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