特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラムリサーチコーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラムリサーチコーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第430位　93件（2012年：第409位　98件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第342位　112件（2012年：第317位　115件）

（ランキング更新日：2024年10月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

ラムリサーチコーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5164978	プラズマ処理を監視する方法	2013年 3月21日
特許 5161461	プラズマ処理システムにおける選択性の制御方法	2013年 3月13日
特許 5156025	電極寿命の延長のためのガス流れの修正を伴うシャワーヘッド電極組立体	2013年 3月 6日
特許 5154441	二相の基板洗浄化合物、洗浄化合物を使用するための方法および装置	2013年 2月27日
特許 5153143	銅表面に対する表面還元、不動態化、腐食防止、および活性化のための方法	2013年 2月27日
特許 5148508	半導体基板を洗浄するための方法および装置	2013年 2月20日
特許 5150022	メモリセルキャパシタ構造におけるメモリセルキャパシタプレートの形成方法	2013年 2月20日
特許 5148043	プラズマ処理チャンバにおける単周波ＲＦ電力を用いたウェハ処理システム、処理装置、および処理方法	2013年 2月20日
特許 5144753	プラズマ処理システムのＥＳＣ高電圧制御	2013年 2月13日
特許 5145328	半導体基板のエッジの一部を洗浄する装置、洗浄するシステムおよび方法	2013年 2月13日
特許 5138700	容量結合プラズマプロセスチャンバにおけるガスフローコンダクタンス制御のための装置および方法	2013年 2月 6日
特許 5135306	真空プロセッサ中の誘電体工作物のための静電デチャッキング方法および装置	2013年 2月 6日
特許 5139451	低誘電率材料を修復するための装置および方法	2013年 2月 6日
特許 5139059	プラズマ処理システムにおけるエッチング耐性を最適にする方法	2013年 2月 6日
特許 5139029	プラズマ処理装置	2013年 2月 6日

112 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5164978 5161461 5156025 5154441 5153143 5148508 5150022 5148043 5144753 5145328 5138700 5135306 5139451 5139059 5139029

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ラムリサーチコーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数