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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第213位 201件 (2010年:第267位 178件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第174位 207件 (2010年:第188位 176件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4614056 | レジスト用化合物および感放射線性組成物 | 2011年 1月19日 | |
特許 4609613 | 一酸化炭素の製造方法 | 2011年 1月12日 | |
特許 4609612 | 往復動プレート式向流抽出装置 | 2011年 1月12日 | |
特許 4609649 | レジスト組成物 | 2011年 1月12日 | |
特許 4609611 | 高純度アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造方法 | 2011年 1月12日 | |
特許 4608713 | 反応生成液からのアルデヒドの回収法 | 2011年 1月12日 | |
特許 4609616 | 半導体装置用洗浄剤 | 2011年 1月12日 | |
特許 4605334 | 触媒製造法 | 2011年 1月 5日 | |
特許 4605323 | 孔明け用滑剤シート及びドリル孔明け加工法 | 2011年 1月 5日 | |
特許 4604562 | スピログリコールの製造方法 | 2011年 1月 5日 | |
特許 4604549 | 粒径の改善された高純度スピログリコールの製造方法 | 2011年 1月 5日 | |
特許 4605322 | オキシメチレン共重合体の製造方法 | 2011年 1月 5日 |
207 件中 196-207 件を表示
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4614056 4609613 4609612 4609649 4609611 4608713 4609616 4605334 4605323 4604562 4604549 4605322
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