特許ランキング - 出願人詳細情報 -

三菱瓦斯化学株式会社

※ ログインすれば出願人(三菱瓦斯化学株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第272位　144件（2015年：第242位　184件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第149位　236件（2015年：第181位　169件）

（ランキング更新日：2026年1月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6051452	固定床気液混相反応器及びそれを用いた気液混相反応法	2016年12月27日
特許 6051653	ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂硬化物およびポリイミドフィルム	2016年12月27日
特許 6051896	バイオ医薬の保存方法	2016年12月27日
特許 6051900	酸素吸収性多層ボトル	2016年12月27日
特許 6051956	酸素吸収性多層体、及び酸素吸収性容器	2016年12月27日
特許 6051957	酸素吸収性多層体、及び酸素吸収性容器	2016年12月27日
特許 6051958	酸素吸収性ＰＴＰ包装体	2016年12月27日
特許 6052031	ポリアミド樹脂組成物及びこれを用いた成形品	2016年12月27日
特許 6052183	還元型ピロロキノリンキノンのゲル	2016年12月27日
特許 6052453	高流動性ポリカーボネート共重合体、高分子量化された芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法、及び芳香族ポリカーボネート化合物	2016年12月27日
特許 6052652	リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法	2016年12月27日
特許 6053260	ホウ素及びフッ素含有排水の処理方法	2016年12月27日
特許 6053261	ホウ素含有排水の処理方法	2016年12月27日
特許 6048012	光学材料の製造方法	2016年12月21日
特許 6048013	光学材料用重合性組成物の製造方法	2016年12月21日

241 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6051452 6051653 6051896 6051900 6051956 6051957 6051958 6052031 6052183 6052453 6052652 6053260 6053261 6048012 6048013

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三菱瓦斯化学株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数