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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第272位 144件
(2015年:第242位 184件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第149位 236件
(2015年:第181位 169件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6051452 | 固定床気液混相反応器及びそれを用いた気液混相反応法 | 2016年12月27日 | |
特許 6051653 | ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂硬化物およびポリイミドフィルム | 2016年12月27日 | |
特許 6051896 | バイオ医薬の保存方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6051900 | 酸素吸収性多層ボトル | 2016年12月27日 | |
特許 6051956 | 酸素吸収性多層体、及び酸素吸収性容器 | 2016年12月27日 | |
特許 6051957 | 酸素吸収性多層体、及び酸素吸収性容器 | 2016年12月27日 | |
特許 6051958 | 酸素吸収性PTP包装体 | 2016年12月27日 | |
特許 6052031 | ポリアミド樹脂組成物及びこれを用いた成形品 | 2016年12月27日 | |
特許 6052183 | 還元型ピロロキノリンキノンのゲル | 2016年12月27日 | |
特許 6052453 | 高流動性ポリカーボネート共重合体、高分子量化された芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法、及び芳香族ポリカーボネート化合物 | 2016年12月27日 | |
特許 6052652 | リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6053260 | ホウ素及びフッ素含有排水の処理方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6053261 | ホウ素含有排水の処理方法 | 2016年12月27日 | |
特許 6048012 | 光学材料の製造方法 | 2016年12月21日 | |
特許 6048013 | 光学材料用重合性組成物の製造方法 | 2016年12月21日 |
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6051452 6051653 6051896 6051900 6051956 6051957 6051958 6052031 6052183 6052453 6052652 6053260 6053261 6048012 6048013
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