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三菱瓦斯化学株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第213位 201件
（
2010年：第267位 178件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第174位 207件
（2010年：第188位 176件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4760002 | ラミネートフィルムの製造方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4760677 | アントラキノン法による過酸化水素の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4759954 | 低濃度過酢酸の製造方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4759841 | メタクリル酸メタアリルの製造方法 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763190 | ガスバリア性塗料用組成物および塗料 | 2011年 8月31日 | |
| 特許 4763870 | 燃料電池用水素の製造法 | 2011年 8月31日 | 共同出願 |
| 特許 4752308 | 樹脂組成物及びそれを用いた硬化物 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4752759 | 光学活性フルオロ化合物の製造方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4752910 | ドリル孔明け用エントリーシート | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4747417 | ニトリル化合物の製造方法 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4742476 | 隠蔽性を有するラベル型脱酸素剤 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4742417 | 半導体素子の製造方法 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4742848 | ガスバリア性容器 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4742763 | アミノメチレンホスホン酸の製造方法 | 2011年 8月10日 | |
| 特許 4740692 | プリント配線板の製造法 | 2011年 8月 3日 | 共同出願 |
207 件中 76-90 件を表示
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4760002 4760677 4759954 4759841 4763190 4763870 4752308 4752759 4752910 4747417 4742476 4742417 4742848 4742763 4740692
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