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三菱瓦斯化学株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第213位 201件
（
2010年：第267位 178件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第174位 207件
（2010年：第188位 176件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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三菱瓦斯化学株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4727013 | 炭酸ガスレーザー加工によるスルーホールを有する多層プリント配線板の製造方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4729779 | キシリレンジアミンの製造方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4729961 | ハードコートされた光学材料の製造方法 | 2011年 7月20日 | |
| 特許 4724973 | ジメチルエーテル改質触媒および該触媒を用いる水素含有ガス製造方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720102 | 多層容器 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4725137 | エキソ−トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−エンド−２−カルボン酸の製造方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4725136 | トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−２−カルボン酸エステルの製造法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720112 | 高純度芳香族ポリカルボン酸の製造法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4720229 | ポリエステル樹脂の製造方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4724959 | フォトレジスト剥離剤組成物 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4715987 | 水処理剤 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4715979 | プリプレグの製造方法及びそれを用いたプリント配線板 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4716249 | 重合性組成物 | 2011年 7月 6日 | |
| 特許 4711040 | 多層容器 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4711065 | 積層体および多層容器 | 2011年 6月29日 |
207 件中 106-120 件を表示
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4727013 4729779 4729961 4724973 4720102 4725137 4725136 4720112 4720229 4724959 4715987 4715979 4716249 4711040 4711065
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