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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第50位 749件 (2011年:第125位 360件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第60位 618件 (2011年:第114位 318件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4867627 | 半導体装置の製造方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867241 | プラズマ計測装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867171 | 半導体装置の製造方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867140 | 半導体装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867131 | 半導体装置およびその製造方法 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867500 | スイッチング電源装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867290 | 3レベル電圧可逆チョッパ装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4867067 | 永久磁石形同期電動機の制御装置 | 2012年 2月 1日 | |
特許 4862500 | ソフトスタート回路及び半導体装置 | 2012年 1月25日 | |
特許 4862401 | 農薬データ更新装置 | 2012年 1月25日 | |
特許 4862207 | 半導体装置の製造方法 | 2012年 1月25日 | |
特許 4858467 | メタン発酵処理方法及びメタン発酵処理装置 | 2012年 1月18日 | |
特許 4857457 | 温間鍛造用ビレットヒータ | 2012年 1月18日 | |
特許 4858238 | レーザ溶接部材およびそれを用いた半導体装置 | 2012年 1月18日 | |
特許 4857659 | 膜厚評価方法、研磨終点検出方法及びデバイス製造装置 | 2012年 1月18日 |
618 件中 571-585 件を表示
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4867627 4867241 4867171 4867140 4867131 4867500 4867290 4867067 4862500 4862401 4862207 4858467 4857457 4858238 4857659
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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