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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第182位 240件
(2010年:第206位 248件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第545位 58件
(2010年:第584位 46件)
(ランキング更新日:2025年7月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-505322 | 少なくとも1つの極めて高い表面品質の面を呈示するガラス板の製造装置と製造方法 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505320 | 延長された照射装置および非直線経路によるファイバの硬化 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505319 | ガラス製造システムにおいて用いられる耐火性の耐クリープ性多重層 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505318 | 低い膨張係数勾配を有する低膨張性ガラス材料 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505317 | 耐熱性セラミックと金属との結合方法 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505592 | DUV素子のための緻密で均質なフッ化物膜及びその作製方法 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-505667 | 電子部品をパッケージする方法および装置 | 2011年 2月24日 | |
特表 2011-504869 | 微細多孔性の低微小亀裂化セラミックハニカムおよび方法 | 2011年 2月17日 | |
特表 2011-504992 | マルチヒット対応透明積層装甲システム | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-32166 | ガラス材料を作製する方法および装置 | 2011年 2月17日 | |
特表 2011-505023 | 大有効面積光ファイバー | 2011年 2月17日 | |
特開 2011-26193 | 罫書きを開始する方法および装置 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-26195 | ガラス板のエッジの処理方法 | 2011年 2月10日 | |
特表 2011-504159 | セラミックモノリスのための低膨張セメント組成物 | 2011年 2月 3日 | |
特表 2011-504221 | マイクロ流体の自励発振ミキサおよび装置ならびにその使用方法 | 2011年 2月 3日 |
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2011-505322 2011-505320 2011-505319 2011-505318 2011-505317 2011-505592 2011-505667 2011-504869 2011-504992 2011-32166 2011-505023 2011-26193 2011-26195 2011-504159 2011-504221
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
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