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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第182位 240件
(2010年:第206位 248件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第545位 58件
(2010年:第584位 46件)
(ランキング更新日:2025年7月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-530470 | 強化ガラス物品およびその製造方法 | 2011年12月22日 | |
特表 2011-530436 | ポリマー材料に表面下マークを提供する方法 | 2011年12月22日 | |
特表 2011-530725 | 少なくとも2つのクラッドを有するマルチモードファイバ | 2011年12月22日 | |
特表 2011-530480 | 規則性メソ多孔質の独立炭素フィルムおよび形状因子 | 2011年12月22日 | |
特表 2011-530481 | 規則性メソポーラス炭素−ケイ素ナノ複合材料の合成 | 2011年12月22日 | |
特表 2011-529846 | 製造可能性が改善されたセラミック前駆体 | 2011年12月15日 | |
特開 2011-246349 | レーザスコアリングにおける亀裂深さの制御 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-246345 | 流れている溶融ガラスリボンの厚さを制御する方法および装置 | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529624 | ガラスパッケージ内に液体を封止する方法および得られるガラスパッケージ | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529437 | ナノファイバー、およびこのナノファイバーの作製方法 | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529438 | ガラスの化学強化のための二段階イオン交換 | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529439 | ガラス鉛直処理装置 | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529641 | マスクレスリソグラフィのための集束スポットの最適化 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-247894 | 周波数偏移干渉計及び選択的データ処理 | 2011年12月 8日 | |
特表 2011-529640 | スポットが調整される能動スポットアレイリソグラフィ用投影機システム | 2011年12月 8日 |
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2011-530470 2011-530436 2011-530725 2011-530480 2011-530481 2011-529846 2011-246349 2011-246345 2011-529624 2011-529437 2011-529438 2011-529439 2011-529641 2011-247894 2011-529640
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7月18日(金) - 東京 千代田区
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7月23日(水) -
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7月25日(金) - 大阪 大阪市
7月25日(金) - 東京 立川市
【特許のはなし・生成系AIのリスクのはなし】~特許の使い方・使える特許の作り方と、生成系AIを業務で使う場合のリスクと対応策について~
7月25日(金) -
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