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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1527位 18件
(2012年:第1005位 28件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第934位 31件
(2012年:第1040位 27件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5371033 | 3官能ニトリルオキシドおよびその製造方法 | 2013年12月18日 | 共同出願 |
特許 5363204 | 塗布装置のスリットノズルの洗浄方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5363918 | 酸化マグネシウム膜およびその成膜方法、ならびにプラズマ生成電極 | 2013年12月11日 | 共同出願 |
特許 5348938 | 一酸化炭素ガス発生装置および方法 | 2013年11月20日 | |
特許 5328077 | 低エンドトキシン化ゼラチンの製造方法 | 2013年10月30日 | |
特許 5311390 | オニウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法 | 2013年10月 9日 | 共同出願 |
特許 5285952 | 一酸化炭素ガス発生装置および方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5280557 | 3,3’,4,4’−テトラシアノジフェニルエーテルの製造方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5280115 | p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)の製造方法 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5268404 | フェノール系重合体、その製法およびその用途 | 2013年 8月21日 | |
特許 5252969 | 2,5−フランジカルボン酸の製造方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5244491 | 空気分離装置 | 2013年 7月24日 | 共同出願 |
特許 5243303 | ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)類の製造方法 | 2013年 7月24日 | 共同出願 |
特許 5226575 | ドライアイススノー洗浄装置および方法 | 2013年 7月 3日 | |
特許 5229886 | チューブ状フィルム内周面処理装置およびチューブ状フィルム内周面処理方法 | 2013年 7月 3日 |
31 件中 1-15 件を表示
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5371033 5363204 5363918 5348938 5328077 5311390 5285952 5280557 5280115 5268404 5252969 5244491 5243303 5226575 5229886
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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