特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立国際電気

※ ログインすれば出願人(株式会社日立国際電気)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第141位　352件（2012年：第60位　663件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第146位　280件（2012年：第136位　287件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社日立国際電気の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2013-84911	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年 5月 9日
特開 2013-84898	半導体装置の製造方法及び基板処理装置	2013年 5月 9日
特開 2013-82995	半導体装置の製造方法、半導体装置および基板処理装置	2013年 5月 9日
特開 2013-84918	基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム	2013年 5月 9日
特開 2013-85188	表示システム	2013年 5月 9日
特開 2013-85059	無線通信システム	2013年 5月 9日
特開 2013-80979	半導体装置の製造方法および基板処理装置	2013年 5月 2日
特開 2013-80907	基板処理装置、半導体装置の製造方法及びプログラム	2013年 5月 2日
特開 2013-80771	基板処理装置及び半導体装置の製造方法	2013年 5月 2日
特開 2013-81039	映像表示装置	2013年 5月 2日
特開 2013-77824	基板処理装置、基板処理装置の表示方法及び半導体装置の製造方法。	2013年 4月25日
特開 2013-77805	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年 4月25日
特開 2013-77803	クリーニング方法、半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム	2013年 4月25日
特開 2013-76157	半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置およびプログラム	2013年 4月25日
再表 2011-74604	半導体装置の製造方法、基板処理装置及び半導体装置	2013年 4月25日

352 件中 226-240 件を表示

... 16

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-84911 2013-84898 2013-82995 2013-84918 2013-85188 2013-85059 2013-80979 2013-80907 2013-80771 2013-81039 2013-77824 2013-77805 2013-77803 2013-76157 2011-74604

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立国際電気の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数