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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第260位 162件
(2013年:第239位 197件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第446位 80件
(2013年:第416位 86件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-192275 | 導電性パターン転写用基材および導電性パターン転写方法 | 2014年10月 6日 | |
特開 2014-192147 | リチウムイオン二次電池用セパレータの製造装置および製造方法 | 2014年10月 6日 | |
特開 2014-191273 | 感光性平版印刷版の製版方法 | 2014年10月 6日 | |
特開 2014-188944 | ガスバリア性フィルム | 2014年10月 6日 | |
特開 2014-188865 | 校正用インクジェット記録用紙 | 2014年10月 6日 | |
特開 2014-186857 | リチウムイオン二次電池用セパレータ基材及びリチウムイオン二次電池用セパレータ | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-186242 | 電子写真用記録シート | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-186105 | 感光性平版印刷版 | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-186106 | 感光性平版印刷版の製造方法 | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-187352 | レジスト層の薄膜化装置 | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-186716 | 光透過性電極 | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-186942 | リチウム電池用セパレータ基材 | 2014年10月 2日 | |
特開 2014-180638 | 半透膜の製造方法 | 2014年 9月29日 | |
特開 2014-180491 | ストロンチウムアパタイトの製造方法およびストロンチウムアパタイト微粒子の製造方法 | 2014年 9月29日 | |
特開 2014-180639 | 半透膜の製造方法 | 2014年 9月29日 |
162 件中 16-30 件を表示
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2014-192275 2014-192147 2014-191273 2014-188944 2014-188865 2014-186857 2014-186242 2014-186105 2014-186106 2014-187352 2014-186716 2014-186942 2014-180638 2014-180491 2014-180639
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月26日(水) -
2月26日(水) -
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2月26日(水) -
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
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2月25日(火) -
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