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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第180位 254件 (2011年:第189位 230件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第181位 217件 (2011年:第194位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-151384 | 射出装置およびパターン形成装置、並びに、射出方法およびパターン形成方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-151349 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-148476 | 印刷装置および印刷方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-151258 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-143691 | パターン形成方法およびパターン形成装置 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-146696 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-145890 | 光学デバイス、レーザ装置および露光装置 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-146844 | 薄膜形成システム | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-146480 | 電極の製造方法、電池用電極および電池 | 2012年 8月 2日 | |
特開 2012-137393 | 基板検査装置及び基板検査方法 | 2012年 7月19日 | |
特開 2012-126109 | 画像記録装置 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-129294 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-129227 | パターン形成方法およびパターン形成装置 | 2012年 7月 5日 | |
特開 2012-119571 | 陽極化成装置 | 2012年 6月21日 | 共同出願 |
特開 2012-119570 | 陽極化成装置 | 2012年 6月21日 | 共同出願 |
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2012-151384 2012-151349 2012-148476 2012-151258 2012-143691 2012-146696 2012-145890 2012-146844 2012-146480 2012-137393 2012-126109 2012-129294 2012-129227 2012-119571 2012-119570
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