ホーム > 特許ランキング > 大日本スクリーン製造株式会社 > 2014年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(大日本スクリーン製造株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第142位 322件 (2013年:第118位 415件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第261位 154件 (2013年:第163位 256件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-126263 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 | 2014年 7月 7日 | |
再表 2012-117601 | 炭素含有率取得装置および炭素含有率取得方法 | 2014年 7月 7日 | |
特開 2014-122842 | 基板の汚染回収分析方法、基板の汚染回収装置、および基板の汚染回収分析システム | 2014年 7月 3日 | |
特開 2014-120664 | 剥離補助方法および剥離補助装置 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-120645 | 基板処理装置及びその方法 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-120644 | 基板処理装置及びその自己診断方法 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-120509 | 熱処理装置 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-120497 | 熱処理装置 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-115356 | 基板処理装置 | 2014年 6月26日 | |
特開 2014-113716 | 画像記録装置 | 2014年 6月26日 | |
特開 2014-116552 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2014年 6月26日 | |
特開 2014-112652 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2014年 6月19日 | |
特開 2014-108368 | 薬液塗布装置、薬液塗布ユニット、および薬液塗布方法 | 2014年 6月12日 | |
特開 2014-109488 | 画像処理装置、画像処理方法、および画像処理プログラム | 2014年 6月12日 | |
特開 2014-110404 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2014年 6月12日 |
322 件中 151-165 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2014-126263 2012-117601 2014-122842 2014-120664 2014-120645 2014-120644 2014-120509 2014-120497 2014-115356 2014-113716 2014-116552 2014-112652 2014-108368 2014-109488 2014-110404
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。大日本スクリーン製造株式会社の知財の動向チェックに便利です。
1月8日(水) -
1月8日(水) -
1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月8日(水) -
〒951-8152 新潟県新潟市中央区信濃町21番7号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都外神田4-14-2 東京タイムズタワー2703号室 特許・実用新案 鑑定
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング