ホーム > 特許ランキング > 大日本スクリーン製造株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(大日本スクリーン製造株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件 (2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件 (2010年:第158位 203件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-210933 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-210763 | 基板熱処理装置 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-210976 | 基板処理装置の供給異常検知方法及びそれを用いた基板処理装置 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-210985 | 基板搬送装置および基板処理装置 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-207104 | パターン印刷装置および凸版印刷版 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-207539 | 基板処理装置 | 2011年10月20日 | |
特開 2011-209116 | 3次元位置・姿勢認識装置およびそれを用いたシステム、方法、プログラム | 2011年10月20日 | |
特開 2011-204933 | 基板処理装置 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-203555 | 画像記録装置および画像記録方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-204712 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-205145 | 基板処理方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-205110 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-204741 | 印加電圧設定方法、熱処理方法および熱処理装置 | 2011年10月13日 | |
特開 2011-201232 | 印刷装置、画像処理装置、およびプログラム | 2011年10月13日 | |
特開 2011-204742 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2011年10月13日 |
230 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-210933 2011-210763 2011-210976 2011-210985 2011-207104 2011-207539 2011-209116 2011-204933 2011-203555 2011-204712 2011-205145 2011-205110 2011-204741 2011-201232 2011-204742
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。大日本スクリーン製造株式会社の知財の動向チェックに便利です。
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定
東京都新宿区新宿5-10-1 第2スカイビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
659-0068 兵庫県芦屋市業平町4-1 イム・エメロードビル503 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング