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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第180位 254件 (2011年:第189位 230件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第181位 217件 (2011年:第194位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-204712 | 基板保持具および基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204713 | 基板保持具および基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204746 | 基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204559 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204417 | 基板処理方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204451 | 基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204719 | 基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204720 | 基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204777 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204422 | 位置検出方法、パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204031 | 活物質層の形成装置および形成方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-202732 | 3次元位置・姿勢認識装置、3次元位置・姿勢認識方法、3次元位置・姿勢認識プログラム | 2012年10月22日 | |
特開 2012-202650 | 乾燥装置、および処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-202839 | ムラ検査用画像取得装置およびムラ検査装置並びに照射部の位置決定方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204483 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2012年10月22日 |
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2012-204712 2012-204713 2012-204746 2012-204559 2012-204417 2012-204451 2012-204719 2012-204720 2012-204777 2012-204422 2012-204031 2012-202732 2012-202650 2012-202839 2012-204483
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