ホーム > 特許ランキング > 大日本スクリーン製造株式会社 > 2013年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(大日本スクリーン製造株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第118位 415件 (2012年:第180位 254件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第163位 256件 (2012年:第181位 217件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-206653 | リチウムイオン二次電池用電極、これを用いた単電池及びリチウムイオン二次電池 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207076 | 処理液供給装置および処理液供給方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-206243 | 印刷制御装置、印刷システム、印刷制御プログラム、および印刷制御方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-206896 | 熱処理装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207159 | 剥離装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-203544 | 搬送機構および印刷装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-205886 | 印刷制御装置、印刷制御プログラム、および印刷制御方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207140 | 基板処理装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-202547 | 基板処理装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207092 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207152 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207042 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207041 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207063 | 熱処理装置 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-207272 | 基板処理装置 | 2013年10月 7日 |
415 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2013-206653 2013-207076 2013-206243 2013-206896 2013-207159 2013-203544 2013-205886 2013-207140 2013-202547 2013-207092 2013-207152 2013-207042 2013-207041 2013-207063 2013-207272
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。大日本スクリーン製造株式会社の知財の動向チェックに便利です。
〒453-0012 愛知県名古屋市中村区井深町1番1号 新名古屋センタービル・本陣街2階 243-1号室 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒170-0013 東京都豊島区東池袋3丁目9-10 池袋FNビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市伏見区深草大亀谷万帖敷町446-2 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング