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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第180位 254件 (2011年:第189位 230件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第181位 217件 (2011年:第194位 188件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-204417 | 基板処理方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204483 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204422 | 位置検出方法、パターン描画方法、パターン描画装置およびコンピュータプログラム | 2012年10月22日 | |
特開 2012-200930 | インクジェット印刷装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-201008 | 画像記録装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-201044 | 印刷装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-202732 | 3次元位置・姿勢認識装置、3次元位置・姿勢認識方法、3次元位置・姿勢認識プログラム | 2012年10月22日 | |
特開 2012-202650 | 乾燥装置、および処理装置 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-204559 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-202839 | ムラ検査用画像取得装置およびムラ検査装置並びに照射部の位置決定方法 | 2012年10月22日 | |
特開 2012-199407 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-196851 | インクジェットプリンタおよびドット間隔調整方法 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199302 | 基板収容器 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199150 | 電池用電極の製造方法及び電池用電極製造装置 | 2012年10月18日 | |
特開 2012-199304 | 基板処理装置 | 2012年10月18日 |
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2012-204417 2012-204483 2012-204422 2012-200930 2012-201008 2012-201044 2012-202732 2012-202650 2012-204559 2012-202839 2012-199407 2012-196851 2012-199302 2012-199150 2012-199304
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