ホーム > 特許ランキング > 大日本スクリーン製造株式会社 > 2011年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(大日本スクリーン製造株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第189位 230件 (2010年:第172位 293件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第194位 188件 (2010年:第158位 203件)
(ランキング更新日:2024年12月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-124383 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-119562 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2011年 6月16日 | |
特開 2011-110459 | パターン形成方法およびパターン形成装置 | 2011年 6月 9日 | |
特開 2011-114715 | 画像記録装置、ハーフトーン画像データ生成装置および閾値マトリクス | 2011年 6月 9日 | |
特開 2011-106298 | 発電装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-106899 | 画像処理方法 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-108703 | 太陽光発電装置 | 2011年 6月 2日 | |
特開 2011-100766 | 薄膜転写装置および薄膜転写方法 | 2011年 5月19日 | 共同出願 |
特開 2011-96532 | 基板載置装置 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-95131 | 画像処理方法 | 2011年 5月12日 | |
特開 2011-91435 | 基板処理装置 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-86868 | 基板処理装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86871 | 基板処理装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86870 | 基板処理装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86864 | 基板処理装置 | 2011年 4月28日 |
230 件中 121-135 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2011-124383 2011-119562 2011-110459 2011-114715 2011-106298 2011-106899 2011-108703 2011-100766 2011-96532 2011-95131 2011-91435 2011-86868 2011-86871 2011-86870 2011-86864
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。大日本スクリーン製造株式会社の知財の動向チェックに便利です。
〒141-0031 東京都品川区西五反田3-6-20 いちご西五反田ビル8F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市伏見区深草大亀谷万帖敷町446-2 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
659-0068 兵庫県芦屋市業平町4-1 イム・エメロードビル503 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング