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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第3位 5326件
(2013年:第3位 6655件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第4位 4016件
(2013年:第5位 4498件)
(ランキング更新日:2025年8月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2014-241180 | 不揮発性半導体記憶装置及びその動作方法 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241428 | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-240884 | コンテンツ作成支援装置、方法およびプログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-240940 | 書き起こし支援装置、方法、及びプログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241362 | 電機機器 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-240921 | 暗号装置、暗号処理方法及び暗号処理プログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241473 | 画像処理装置、方法、及びプログラム、並びに、立体画像表示装置 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241005 | 表示制御装置、表示制御方法、及び表示制御プログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241016 | インデックス作成装置、インデックス作成システム、インデックス作成方法、及び、インデックス作成プログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241040 | 情報処理装置、方法、及びプログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241088 | 地域指標算出装置、地域指標算出方法、及び、地域指標算出プログラム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241465 | 署名生成装置、署名生成方法、署名生成プログラム、及び電力使用量計算システム | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241019 | 半導体集積回路及び情報処理装置 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-240994 | 近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法、近接場露光方法、パターン形成方法、近接場光リソグラフィ部材、および近接場ナノインプリント方法 | 2014年12月25日 | |
特開 2014-241521 | 画像読取装置及び消去装置 | 2014年12月25日 | 共同出願 |
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2014-241180 2014-241428 2014-240884 2014-240940 2014-241362 2014-240921 2014-241473 2014-241005 2014-241016 2014-241040 2014-241088 2014-241465 2014-241019 2014-240994 2014-241521
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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9月2日(火) - 東京 港区
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9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
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9月5日(金) -
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