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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第3位 6655件
(2012年:第3位 6349件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第5位 4498件
(2012年:第5位 4366件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-195232 | 二次電池の内部抵抗演算装置及びその内部抵抗演算方法、二次電池の異常検出装置及びその異常検出方法、並びに二次電池の劣化推定装置及びその劣化推定方法 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195226 | 劣化診断装置および劣化診断方法 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195190 | 目標角度検出装置、目標角度検出方法及び誘導装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195189 | 目標角度検出装置、目標角度検出方法及び誘導装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195170 | 気流状況予測装置、気流状況予測方法、拡散状況予測装置および拡散状況予測方法 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195129 | 二次電池装置および二次電池装置の異常検出方法 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195120 | 半導体集積回路装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-198118 | 追尾装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-197549 | ファイバレーザ装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195980 | 液晶光学素子及び画像表示装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195856 | 液晶光学素子及び画像表示装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-197497 | ドーズ量の補正マップの作成方法、露光方法及び半導体装置の製造方法 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-197465 | 静電チャック装置および露光装置 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-197337 | 露光方法、及び露光システム | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-195912 | マスクおよび半導体装置の製造方法 | 2013年 9月30日 |
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2013-195232 2013-195226 2013-195190 2013-195189 2013-195170 2013-195129 2013-195120 2013-198118 2013-197549 2013-195980 2013-195856 2013-197497 2013-197465 2013-197337 2013-195912
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特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ~コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説~
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