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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第3位 5326件
(2013年:第3位 6655件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第4位 4016件
(2013年:第5位 4498件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5613710 | サーバ端末、画面転送システムおよび画面転送方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5615310 | 磁気メモリ | 2014年10月29日 | |
特許 5613603 | 原子炉内機器形状計測装置および原子炉内機器形状計測方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5615334 | 半導体発光素子 | 2014年10月29日 | |
特許 5615282 | 電子機器および損傷検出方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5615207 | 半導体装置の製造方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5613719 | 半導体発光素子 | 2014年10月29日 | |
特許 5613640 | 半導体装置の製造方法 | 2014年10月29日 | |
特許 5612167 | フロック強度測定装置及び測定方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5612146 | 水処理装置及び水処理方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5611868 | 脱水システム及び排水処理システム | 2014年10月22日 | |
特許 5611582 | 電気的中性物質の分離方法、及び電気的中性物質の分離装置 | 2014年10月22日 | |
特許 5611757 | 加熱補修装置および加熱補修方法 | 2014年10月22日 | |
特許 5611912 | インプリント用レジスト材料、パターン形成方法、及びインプリント装置 | 2014年10月22日 | |
特許 5612005 | 水処理システム及び水処理方法 | 2014年10月22日 |
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5613710 5615310 5613603 5615334 5615282 5615207 5613719 5613640 5612167 5612146 5611868 5611582 5611757 5611912 5612005
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2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
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3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
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3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
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