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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第28位 1306件 (2012年:第30位 1262件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第31位 1026件 (2012年:第27位 1069件)
(ランキング更新日:2025年1月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5228666 | 偽造防止構造体、偽造防止ステッカー、偽造防止転写箔、偽造防止インキ、偽造防止媒体、偽造防止用紙、及び真偽判定方法 | 2013年 7月 3日 | |
特許 5228346 | 表示システム | 2013年 7月 3日 | |
特許 5228339 | 燃料電池用電極触媒層、それを用いて成るMEA(電解質膜電極接合体)および固体高分子型燃料電池 | 2013年 7月 3日 | |
特許 5223278 | マイクロニードル製造方法 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223218 | フェムト秒レーザ加工による針状体アレイの製造方法 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223408 | 光学シート及びバックライトユニット並びにディスプレイ装置 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223288 | 化粧シート | 2013年 6月26日 | |
特許 5220326 | 印刷方法及び印刷装置 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223609 | 表示体、粘着ラベル、転写箔及びラベル付き物品 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223345 | 画像形成体 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223296 | 非接触IC媒体 | 2013年 6月26日 | |
特許 5223465 | カラーフィルタおよび液晶表示装置 | 2013年 6月26日 | |
特許 5218359 | 電気銅めっき液の分析装置 | 2013年 6月26日 | |
特許 5218190 | パターン形成方法、極端紫外露光用マスク、極端紫外露光用マスクの製造方法および極端紫外露光用マスクの修正方法 | 2013年 6月26日 | |
特許 5218111 | 反射型フォトマスクブランクス、反射型フォトマスク、反射型フォトマスクの検査装置及びその検査方法 | 2013年 6月26日 |
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5228666 5228346 5228339 5223278 5223218 5223408 5223288 5220326 5223609 5223345 5223296 5223465 5218359 5218190 5218111
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1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月10日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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