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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第890位 35件
(2012年:第744位 42件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第476位 74件
(2012年:第610位 54件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5363126 | 電気機器の絶縁抵抗の測定方法及び電気機器の絶縁抵抗測定装置 | 2013年12月11日 | |
特許 5366479 | 乾式処理用のフッ素選択分離剤及び含フッ素化合物の乾式処理方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5367638 | 媒体温度調整システム | 2013年12月11日 | |
特許 5363893 | 過熱水蒸気に曝される鉄系金属表面の処理方法 | 2013年12月11日 | 共同出願 |
特許 5366208 | 絶縁性高分子材料組成物及びその製造方法 | 2013年12月11日 | 共同出願 |
特許 5356881 | 絶縁カバー | 2013年12月 4日 | 共同出願 |
特許 5356926 | 電気化学キャパシタ | 2013年12月 4日 | 共同出願 |
特許 5360859 | 水密型ポリエチレン絶縁電線 | 2013年12月 4日 | 共同出願 |
特許 5358139 | 含ハロゲン化合物の分解処理方法 | 2013年12月 4日 | |
特許 5355882 | 分解処理装置の反応管封止装置及び分解処理装置の反応管封止装置の使用方法 | 2013年11月27日 | 共同出願 |
特許 5346828 | 空調システム | 2013年11月20日 | |
特許 5348952 | 電気化学キャパシタ及びその製造方法 | 2013年11月20日 | 共同出願 |
特許 5339134 | ガス処理装置 | 2013年11月13日 | 共同出願 |
特許 5334093 | インバータ | 2013年11月 6日 | 共同出願 |
特許 5324763 | エピタキシャル膜形成用配向基板及びエピタキシャル膜形成用配向基板の表面改質方法 | 2013年10月23日 | 共同出願 |
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5363126 5366479 5367638 5363893 5366208 5356881 5356926 5360859 5358139 5355882 5346828 5348952 5339134 5334093 5324763
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2月25日(火) -
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