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日揮触媒化成株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第549位 63件
（
2011年：第664位 50件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第458位 76件
（2011年：第622位 49件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日揮触媒化成株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5068979 | 歯科用充填材、その製造方法および歯科用複合材料 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5068298 | 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5062988 | 新規酸化チタンおよび新規酸化チタンの合成方法 | 2012年10月31日 | |
| 特許 5058322 | インクジェット記録用インクおよび印刷基材 | 2012年10月24日 | |
| 特許 5054321 | 歯科用充填材、その製造方法および歯科用複合材料 | 2012年10月24日 | |
| 特許 5051743 | ジルコニウムトリシリケート化合物の製造方法および該方法から得られるジルコニウムトリシリケート化合物 | 2012年10月17日 | |
| 特許 5041695 | 帯電防止膜形成用組成物 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5031185 | 燃料処理剤の製造方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5026172 | ハードコート膜付基材およびハードコート膜形成用塗布液 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5014709 | 低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法および該方法より得られる低誘電率非晶質シリカ系被膜 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5013671 | 金属酸化物ゾルの製造方法および金属酸化物ゾル | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5014895 | シリカ被覆金コロイド粒子の製造方法およびシリカ被覆金コロイド粒子 | 2012年 8月29日 | |
| 特許 5008230 | 水分を含有するセラミックスを主成分とするハニカム状成形体の乾燥装置 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 4999388 | 改質酸化チタン粒子およびその製造方法、並びにこの改質酸化チタン粒子を使用した排ガス処理用触媒 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 4994686 | 一酸化炭素メタネーション用触媒および該触媒を用いた一酸化炭素のメタネーション方法 | 2012年 8月 8日 | 共同出願 |
76 件中 16-30 件を表示
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5068979 5068298 5062988 5058322 5054321 5051743 5041695 5031185 5026172 5014709 5013671 5014895 5008230 4999388 4994686
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