特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キヤノン株式会社

※ ログインすれば出願人(キヤノン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第2位　6498件（2010年：第4位　6952件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第4位　4183件（2010年：第3位　3888件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

キヤノン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-252928	プラズモン共鳴を利用して標的物質を検出する装置に用いられる標的物質検出素子用基板、これを用いた検出素子及び検出装置	2011年12月15日
特開 2011-253255	情報処理装置およびその動作方法	2011年12月15日
特開 2011-251869	ガラスの製造方法	2011年12月15日
特開 2011-251870	撥水性多孔質ガラスおよび光学部材	2011年12月15日
特開 2011-251871	ガラスの製造方法	2011年12月15日
特開 2011-251872	多孔質ガラスの製造方法	2011年12月15日
特開 2011-251807	画像形成装置	2011年12月15日
再表 2009-157451	インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法	2011年12月15日
特開 2011-251414	記録装置及び記録方法	2011年12月15日
特開 2011-251415	インクジェット記録ヘッド、および該インクジェット記録ヘッドを備えたインクジェット記録装置	2011年12月15日
特開 2011-251416	液体吐出ヘッドおよび液体吐出ヘッドの製造方法	2011年12月15日
特開 2011-251449	画像形成装置及びその制御方法、並びにプログラム	2011年12月15日
特開 2011-251465	基板加工方法および液体吐出ヘッドの製造方法	2011年12月15日
特開 2011-251479	記録装置及びその着弾位置調整方法	2011年12月15日
特開 2011-251480	記録装置及びその処理方法	2011年12月15日

6498 件中 196-210 件を表示

... 14

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-252928 2011-253255 2011-251869 2011-251870 2011-251871 2011-251872 2011-251807 2009-157451 2011-251414 2011-251415 2011-251416 2011-251449 2011-251465 2011-251479 2011-251480

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キヤノン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数