キヤノン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2位 7187件
（
2011年：第2位 6498件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第2位 5013件
（
2011年：第4位 4183件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キヤノン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4902512 | 撮像装置及びその制御方法及びプログラム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902451 | 文書出力装置及びその制御方法とプログラム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902413 | 印刷データ処理装置、印刷データ処理方法及びプログラム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902285 | 情報閲覧装置、その制御方法及びプログラム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4900955 | 遠隔操作システム、制御方法及びプログラム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4900941 | 情報処理装置、その制御方法、プログラム及び情報処理システム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4900925 | アクセス権限管理システム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4900889 | 情報処理装置及びその制御方法とプログラム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4898771 | バーコード除去装置及びその除去方法 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4898615 | 情報処理装置および符号化方法 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902415 | 記録再生装置及びその制御方法 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4900945 | 記録装置、及び記録方法 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902682 | 窒化物半導体レーザ | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902150 | 膜転写方法 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4898737 | リチウム二次電池用の負極材料、負極構造体及び二次電池 | 2012年 3月21日 |
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4902512 4902451 4902413 4902285 4900955 4900941 4900925 4900889 4898771 4898615 4902415 4900945 4902682 4902150 4898737
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