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芝浦メカトロニクス株式会社

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  2011年 出願公開件数ランキング    第427位 89件 下降2010年:第301位 152件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第246位 141件 下降2010年:第227位 138件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-255309 塗布装置 2011年12月22日
特開 2011-245612 浄化装置 2011年12月 8日
特開 2011-243762 洗浄方法及び洗浄装置 2011年12月 1日
特開 2011-240405 レーザ加工用ステージおよびレーザ加工装置 2011年12月 1日
特開 2011-243652 電子部品の実装装置及び実装方法 2011年12月 1日 共同出願
特開 2011-243653 超音波実装ツール及び電子部品の実装装置 2011年12月 1日 共同出願
特開 2011-238865 基板処理装置および基板処理方法 2011年11月24日
特開 2011-235355 レーザ加工装置およびレーザ加工方法 2011年11月24日
特開 2011-233574 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 2011年11月17日
特開 2011-233577 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 2011年11月17日
特開 2011-233569 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 2011年11月17日 共同出願
特開 2011-233683 基板貼合装置 2011年11月17日
特開 2011-233571 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 2011年11月17日
特開 2011-233576 半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法 2011年11月17日
特開 2011-230010 半導体装置の製造装置 2011年11月17日

89 件中 1-15 件を表示

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2011-255309 2011-245612 2011-243762 2011-240405 2011-243652 2011-243653 2011-238865 2011-235355 2011-233574 2011-233577 2011-233569 2011-233683 2011-233571 2011-233576 2011-230010

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