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アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッド

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アドバンスト・マイクロ・ディバイシズ・インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2012-518282	補強層を伴う半導体チップ	2012年 8月 9日
特表 2012-516557	歪誘起合金及び段階的なドーパントプロファイルを含むその場で形成されるドレイン及びソース領域	2012年 7月19日
特表 2012-516555	スレッショルド調節半導体合金を堆積させるのに先立ちパターニング不均一性を低減することによる前記半導体合金の厚みばらつきの低減	2012年 7月19日
特表 2012-516483	クラスファイル内にネイティブコードを埋め込むことによる仮想メカニズム内でのプラットフォーム依存ルーチンの適用	2012年 7月19日
特表 2012-516556	減少させられたゲート電極ピッチを有する非対称トランジスタのための段階的なウエル注入	2012年 7月19日
特表 2012-515992	グラフィクスメモリの非グラフィクス使用	2012年 7月12日	共同出願
特表 2012-515995	各プロセッサに対して割り込み仮想化を支援するためのゲスト割り込み制御器	2012年 7月12日
特表 2012-514429	差分モーションベクトルの進歩的な空間フィルタリングを伴う多重候補モーション推定	2012年 6月21日
特表 2012-514317	段階的な形状の構造を有する埋め込み歪誘起材質を伴うトランジスタ	2012年 6月21日
特表 2012-514318	チャネル半導体合金を備えたトランジスタにおける堆積不均一性の低減によるスレッショルド電圧ばらつきの低減	2012年 6月21日
特表 2012-514319	特別に先細りされた遷移ビアを備えた半導体デバイスのメタライゼーションシステム	2012年 6月21日
特表 2012-512490	共有された命令ストリームを伴うコプロセッサユニット	2012年 5月31日
特表 2012-510712	同一の能動領域内に形成されるトランジスタにおいて能動領域内に局所的に埋め込み歪誘起半導体材質を設けることによる駆動電流調節	2012年 5月10日
特表 2012-510742	クロックデューティサイクル適合による半導体デバイスの性能の低下の補償	2012年 5月10日
特表 2012-509645	多重キャリア変調受信機におけるチャネル推定及びピーク対平均電力比低減	2012年 4月19日

50 件中 16-30 件を表示

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2012-518282 2012-516557 2012-516555 2012-516483 2012-516556 2012-515992 2012-515995 2012-514429 2012-514317 2012-514318 2012-514319 2012-512490 2012-510712 2012-510742 2012-509645

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