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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

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  2012年 出願公開件数ランキング    第1466位 17件 上昇2011年:第1750位 13件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第1326位 20件 上昇2011年:第1552位 15件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特表 2012-533888 溝付きCMP研磨PAD 2012年12月27日
特表 2012-531063 ポリシリコン除去速度の抑制のためのCMP組成物および方法 2012年12月 6日
特表 2012-529133 ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 2012年11月15日
特表 2012-522655 自浄式ワイヤソー装置および方法 2012年 9月27日
特開 2012-156550 誘電性CMPスラリーにおけるCsOHの使用 2012年 8月16日
特表 2012-516911 ニッケル−リンメモリーディスク用の研磨組成物 2012年 7月26日
特表 2012-512758 ワイヤーソー切断法 2012年 6月 7日
特表 2012-512756 ワイヤーソーのカッティング中に磁性不純物を連続的に除去するワイヤーソー装置及び方法 2012年 6月 7日
特表 2012-512757 ワイヤーソー切断の間の乾燥性を向上させるための組成物 2012年 6月 7日
特表 2012-512951 非イオン性ポリマーを含有するスラリー組成物とその使用方法 2012年 6月 7日
特表 2012-512954 ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物 2012年 6月 7日
特表 2012-511251 炭化ケイ素膜を選択的に研磨する方法 2012年 5月17日
特開 2012-74734 タングステンの蝕刻抑制剤を含むポリシング組成物 2012年 4月12日
特開 2012-74736 改善された酸化物除去速度のためのCMP組成物 2012年 4月12日
特開 2012-49570 化学機械研磨組成物及びその使用方法 2012年 3月 8日

17 件中 1-15 件を表示

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2012-533888 2012-531063 2012-529133 2012-522655 2012-156550 2012-516911 2012-512758 2012-512756 2012-512757 2012-512951 2012-512954 2012-511251 2012-74734 2012-74736 2012-49570

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