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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1466位 17件 (2011年:第1750位 13件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1326位 20件 (2011年:第1552位 15件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2012-533888 | 溝付きCMP研磨PAD | 2012年12月27日 | |
特表 2012-531063 | ポリシリコン除去速度の抑制のためのCMP組成物および方法 | 2012年12月 6日 | |
特表 2012-529133 | ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 | 2012年11月15日 | |
特表 2012-522655 | 自浄式ワイヤソー装置および方法 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-156550 | 誘電性CMPスラリーにおけるCsOHの使用 | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-516911 | ニッケル−リンメモリーディスク用の研磨組成物 | 2012年 7月26日 | |
特表 2012-512758 | ワイヤーソー切断法 | 2012年 6月 7日 | |
特表 2012-512756 | ワイヤーソーのカッティング中に磁性不純物を連続的に除去するワイヤーソー装置及び方法 | 2012年 6月 7日 | |
特表 2012-512757 | ワイヤーソー切断の間の乾燥性を向上させるための組成物 | 2012年 6月 7日 | |
特表 2012-512951 | 非イオン性ポリマーを含有するスラリー組成物とその使用方法 | 2012年 6月 7日 | |
特表 2012-512954 | ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物 | 2012年 6月 7日 | |
特表 2012-511251 | 炭化ケイ素膜を選択的に研磨する方法 | 2012年 5月17日 | |
特開 2012-74734 | タングステンの蝕刻抑制剤を含むポリシング組成物 | 2012年 4月12日 | |
特開 2012-74736 | 改善された酸化物除去速度のためのCMP組成物 | 2012年 4月12日 | |
特開 2012-49570 | 化学機械研磨組成物及びその使用方法 | 2012年 3月 8日 |
17 件中 1-15 件を表示
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2012-533888 2012-531063 2012-529133 2012-522655 2012-156550 2012-516911 2012-512758 2012-512756 2012-512757 2012-512951 2012-512954 2012-511251 2012-74734 2012-74736 2012-49570
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月22日(火) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月24日(木) -
10月24日(木) -
10月24日(木) - 東京 港
10月24日(木) -
10月25日(金) - 東京 千代田区
10月25日(金) -
10月25日(金) - 大阪 大阪市
10月25日(金) -
10月29日(火) - 東京 品川区
10月29日(火) - 東京 港区
10月29日(火) -
10月30日(水) - 千葉 千葉市
10月30日(水) -
10月30日(水) -
10月29日(火) - 東京 品川区
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